Címdokumentumok térképe |
||
fotolitográfia – A
mikroelektronikai eszközök gyártásánál használt eljárás, amelynek során a félvezető felületre felvitt speciális rétegen maszkot alakítanak ki a létrehozni kívánt szerkezetnek megfelelően. A speciális fényérzékeny réteg a megvilágítás
hatására eltávolíthatóvá válik; ahol nem érte fény, ott viszont megmarad. Az így kialakított maszk bizonyos részeket
elszigetel, másokat elérhetővé tesz például szennyezők bevitele, maratás, vagy más technológiai eljárások számára,
amelyekkel a mikroelektronikai eszköz különböző szerkezeteit kialakítják. A gyártás során számos ilyen, néhány
tized mikron vastag réteg kerül egymás fölé. A korábbi, kisebb integráltsági fokú eszközöknél a megvilágításra egyszerű
fénysugarakat használtak, mivel azonban a fénysugár mérete határt szab a kialakítható szerkezet méretének, a
nano-méretekhez közelítve újabban a megvilágítást speciális optikai eszközökkel, lézerrel, röntgen- illetve
gammasugarakkal valamint elektron- és ionsugarakkal végzik, a minél kisebb méretek elérése érdekében. Az ezzel a
módszerrel elméletileg elérhető legkisebb méret 35 nm körül van, melyet a becslések szerint (International Semiconductor
Roadmap) 2014-re érnek el. Ez alatt a méret alatt technológiaváltásra lesz szükség, az új technológia várhatóan a
molekuláris nanotechnológia lesz. |
Összeállította: Egyed László Utolsó frissítés: 2003. december 31. © 2003 MTA |
|
Kapcsok a világháló felé | ||
¬ Nyitóoldal ® |